镀膜

溅射镀膜设备:

日本磁控溅射镀膜设备，高密度膜层附着；500小时以上、低温-40℃-+85℃ 等各类信赖性实验测试，无任何光  学特性不良发生

真空镀膜设备:

反射、IR、HR等多种膜系的设计制作150+层以上的膜系的蒸镀，实现从可见光到中远红外的波段透过特性。